1. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده: / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma engineering,Semiconductors- Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
2. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده: edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)
موضوع: Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
3. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده: / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma engineering,Semiconductors, Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
4. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده: edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)
موضوع: Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
5. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده: / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma engineering,Semiconductors - Etching,Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
1990
6. Handbook of plasma processing technology :fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده: edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى (تهران)
موضوع: ، Plasma engineering,Etching ، Semiconductors,، Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
